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扫描电子显微镜
Quattro ESEM环境扫描电镜
环境扫描电镜(ESEM)，用于研究包括含水样品在内的各种样品。
Thermo Scientific Quattro ESEM将SEM成像与SEM分析的综合性能与独特的环境模式 (ESEM) 相结合，可在自然状态下研究样品。Quattro ESEM环境扫描电镜是各种学术、工业和政府实验室的理想选择，这些实验室希望不仅能为不同经验水平和学科的用户提供具有多功能性和易用性的测试平台，而且能扩展原位实验功能。Quattro ESEM 环境扫描电镜配备场发射电子枪 (FEG)，可实现高分辨观察，同时其三种真空模式（高真空、低真空及 ESEM）可灵活适应各种样品，包括易放气或在高真空环境下不稳定的样品。
强大的分析和扩展能力
得益于样品仓尺寸，Quattro ESEM环境扫描电镜可适配各种附件。分析能力包括可外接对称 180 度的双能量色散 X 射线光谱（ EDS ），可与EDS几何共面的背散射电子衍射 (EBSD) ，以及波长色散 X 射线光谱 (WDS)。
Quattro ESEM环境扫描电镜支持可选的环境真空加热台、高真空加热台、Thermo Scientific AutoScript 4 软件（基于 Python 的脚本工具）以及新款 RGB 阴极发光 (CL) 检测器。RGB CL 检测器可生成彩色图像，重点显示传统电子或 X 射线成像技术中无法看到的样品特性。环境真空加热台适用于易放气样品或一定气氛下的样品加热试验，高真空加热台可以在高真空模式下对样品进行加热观察，且没有多余气氛的干扰。借助 AutoScript 4 软件，用户可对各种成像参数和载物台移动进行编程，可实现Quattro在无人操作的情况下进行数据采集。
Quattro ESEM环境扫描电镜的应用包括：
纳米表征
金属和合金、断裂、焊缝、抛光切片、磁性和超导电材料
陶瓷、复合材料、塑料
薄膜/涂层
地质切片、矿物
软材料：聚合物、药品、滤片、凝胶、组织、植物材料
颗粒、多孔材料、纤维
原位表征
结晶/相变
氧化、催化
材料生长
水合/脱水/润湿/接触角分析
拉伸（带加热或冷却）
动态原位实验
Quattro ESEM环境扫描电镜的多功能性使其非常适用于材料科学领域的大部分主题。它对传统的高分辨率 SEM 成像/分析以及动态原位实验都非常擅长。它可以帮助研究人员研究自然状态下的各种样品，以获得关于结构和组分的最准确的信息。
独特的环境模式
Quattro ESEM环境扫描电镜的环扫功能可使科学家在各种条件下（例如湿/潮湿、热或活性环境）研究材料、从而可以为建筑、汽车、包装、涂层和能源等众多学科开发新材料和产品。Quattro ESEM环境扫描电镜具有研究化学反应（如氧化、腐蚀、蚀刻、晶体生长和催化）的独特能力，可显著影响科学与环境。
Quattro ESEM 环境扫描电镜的主要特点
动态原位实验
对自然状态下的材料进行原位研究：具有环境模式的独特高分辨场发射扫描电镜 (ESEM)。原位分析的温度范围为 -165°C 至 1400°C，搭配使用各种冷台和热台。
最大限度地减少样品制备时间
低真空和ESEM环境扫描电镜功能可对非导电和/或含水样品进行无电荷/无脱水成像和分析。
样品观察
在各种操作模式下均可实现 SE 和 BSE 同时成像。
优异的分析能力
优异的分析能力来自可以最多同时使用 3 个 EDS 检测器的腔室，并具有对称180°的 EDS 接口、WDS接口以及和EDS几何共面的EBSD接口。对非导电样品的出色分析：在低真空条件下，Quattro ESEM高温扫描电镜的减小电子束散射技术可实现准确的 EDS 和 EBSD。
灵活且精确
灵活且精确的优中心样品台，倾斜范围达 105°，可从各个角度观察样品。
易于使用的软件及创新性选项
直观易用且带有用户指南和撤消功能的软件。使用更少的鼠标点击，更快速地完成工作。新的创新选项，包括可伸缩 RGB 阴极发光 (CL) 检测器、1100°C 高真空加热载物台和 AutoScript 4 软件（基于 Python 的API脚本工具）。
Quattro ESEM 环境扫描电镜的规格
| 分辨率 |
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| 标准检测器 |
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| 可选检测器 |
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| ChemiSEM 技术（可选） |
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| 样品台减速（可选） |
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| 低真空模式 |
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| 样品台 |
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| 标准样品支架 |
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| 样品仓 |
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| 原位配件（可选） |
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| 软件选项 |
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Quattro ESEM 环境扫描电镜的相关资源
CaCu3Ti4O12 (CCTO) 是一种介电常数极高的化合物。样品由 Sylvain Marinel 先生（CRISMAT 实验室，法国）提供。
Quattro ESEM 可在环境扫描电镜模式下于 100% 湿度下研究样品，如这些花粉粒。
当水在环境扫描电镜模式下冷凝或蒸发时，盐晶体溶解并重结晶。
Quattro ESEM 环境扫描电镜的相关应用
采用电镜进行过程控制
现代工业需求高通量、质量卓越、通过稳健的工艺控制维持平衡。SEM扫描电镜和TEM透射电镜工具结合专用的自动化软件，为过程监控和改进提供了快速、多尺度的信息。
质量控制和故障分析
质量控制和保证对于现代工业至关重要。我们提供一系列用于缺陷多尺度和多模式分析的 EM电子显微镜和光谱工具，使您可以为过程控制和改进做出可靠、明智的决策。
基础材料研究
越来越小的规模研究新型材料，以最大限度地控制其物理和化学特性。电子显微镜为研究人员提供了对微米到纳米级各种材料特性的重要见解。
半导体探索和开发
先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。
良率提升和计量
我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能，旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。
半导体故障分析
越来越复杂的半导体器件结构导致更多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。
物理和化学表征
持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程，可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。
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